实用性：
兼容：在传统ITO工艺中膜厚兼容率100%。ITO/IZO与氧化物IGZO膜层。
稳定：刻蚀精度高，使用过程稳定。
寿命：单位体积溶解In/Sn离子量高。
经济性：原料国产化。
安全性：无结晶，无挥发。废液易处理。
开发、生产湿制程电子化学品及封装材料
和其他电子行业特种功能性材料
皖公网安备34012202340638号
